Ürün Genel Bakış
JBX-3050MV serisi, 45 ila 32 nm tasarım kuralını karşılayan maske / retikül üretimi için bir elektron ışını litografi sistemidir. Bu sistem, üst düzey teknoloji ile elde edilen yüksek hız, yüksek doğruluk ve yüksek güvenilirlik ile desen yazma özelliğine sahiptir.
Teknik Özellikler
Pozlama Yöntemi | Vektör tarama, değişken şekilli ışın |
Hızlanma Gerilimi | 50 kV |
Elektron Tabancası Yayıcı | LaB 6 tek kristal |
Pattan | ≤ ± 4 nm (3δ) |
Yazma Pozisyonu Doğruluğu | ≤ ± 10 nm |
Daha Fazla Bilgi
İletişime Geçin