Plazma Kaynağı

Bu plazma kaynağı bir vakum odasına dahil edilebilir ve yüksek yoğunluklu plazma üretebilir. Plazma kaynağı ince filmler, özellikle optik ince filmler için İyon Kaplama (Plazma Destekli Biriktirme) olarak kullanılabilir. Yoğunluk, yapışma, düzlük, kırılma indisi ve absorpsiyon gibi film kalitesi, normal vakum biriktirme yöntemiyle karşılaştırılarak iyileştirilir.

Kurulum Örneği:

Özellikleri:

• Vakum odasında yüksek yoğunluklu plazma üretin

• Geniş alan için kullanılabilir

• Geç birikme (vakum buharlaşması ile aynı seviye)

• Reaktif birikme mümkündür

• Düşük emilim (oksidasyon etkisi)

• Çevreye duyarlı filmlerin üretimi

• Kırılma indeksi geliştirildi

• Yapışma, film yoğunluğu ve film düzlüğü artırıldı

• Işınlama-ışın ve yansıma-ışın yöntemleri arasından seçim yapabilir

Optik İnce Film Örneği:
(büyütmek için tıklayınız)

Şartname:

• Plazma çıkışı: 6.08kW'a kadar
  (Deşarj gerilimi: 160V, Deşarj akımı: 38A)

• Çalışma basıncı: 1 × 10 -2 ila 1 × 10 -1 Pa
  (Ar, O2 veya N2 ortamı)

• Deşarj gazı: 8 ila 20 mL / dak (Ar gazı)

• Soğutma suyu: 7 ila 10 L / dak (10 ila 25 ° C)